L'effetto fotorifrattivo è alla base delle applicazioni ottiche olografiche, ma porta problemi anche ad altre applicazioni ottiche, quindi è stata prestata grande attenzione al miglioramento della resistenza fotorifrattiva del cristallo di niobato di litio, tra cui la regolazione del doping è il metodo più importante.A differenza del drogaggio fotorefrattivo, il drogaggio antifotorefrattivo utilizza elementi con valenza non variabile per ridurre il centro fotorefrattivo.Nel 1980, è stato riferito che la resistenza fotorifrattiva del cristallo di LN drogato con Mg ad alto rapporto aumenta di oltre 2 ordini di grandezza, il che ha attirato ampia attenzione.Nel 1990, i ricercatori hanno scoperto che il LN drogato con zinco ha un'elevata resistenza alla fotorifrazione simile al LN drogato con magnesio.Diversi anni dopo, si scoprì che anche i LN drogati con scandio e indio avevano resistenza alla fotorifrazione.

Nel 2000, Xu et al.scoperto che altorapporto MdrogatoLNcristallo ad alta resistenza fotorifrattiva in banda visibile hasottime prestazioni fotorifrattive in banda UV.Questa scoperta ha sfondato la comprensione diilresistenza fotorifrattiva diLNcristallo, e ha anche riempito il vuoto di materiali fotorifrattivi applicati nella banda ultravioletta.La lunghezza d'onda più corta significa che la dimensione del reticolo olografico può essere più piccola e più fine e può essere cancellata e scritta dinamicamente nel reticolo dalla luce ultravioletta e letta dalla luce rossa e verde, in modo da realizzare l'applicazione dell'ottica olografica dinamica .Lamarque et al.adottato l'altorapporto MdrogatoLN cristallo fornito dalla Nankai University come fotorefrattiva UVMaterialee realizzato la marcatura laser bidimensionale programmabile utilizzando l'amplificazione della luce accoppiata a due onde.

Nella fase iniziale, gli elementi di drogaggio antifotorefrattivo includevano elementi bivalenti e trivalenti come magnesio, zinco, indio e scandio.Nel 2009, Kong et al.sviluppato doping anti-fotorefrattivo utilizzando tetraelementi valenti come afnio, zirconio e stagno.Quando si ottiene la stessa resistenza fotorifrattiva, rispetto agli elementi drogati bivalenti e trivalenti, la quantità di drogaggio degli elementi tetradvalenti è inferiore, ad esempio, 4,0 moli% di afnio e 6,0 moli% di magnesio drogatoLNi cristalli hanno similareresistenza fotorifrattiva,20,0% in moli di zirconio e 6.5 mol% di magnesio drogatoLNi cristalli hanno similareresistenza fotorifrattiva.Inoltre, il coefficiente di segregazione di afnio, zirconio e stagno nel niobato di litio è più vicino a 1, il che è più favorevole per la preparazione di cristalli di alta qualità.

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